成功在矽基板上沉積金紅石型二氧化鍺(r-GeO₂)單晶薄膜
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AI 摘要（NQ 加工版）
Patentix株式會社與株式會社JTEKT Thermo System共同開發了支援6英吋晶圓的新型沉積設備，並成功在矽基板上沉積了下一代功率半導體材料金紅石型二氧化鍺(r-GeO₂)的單晶薄膜。