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榮獲「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎

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N1 內容完整性 5

Key facts

  • 榮獲「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎
  • 紐福萊科技 (NuFlare Technology) 的多電子束光罩曝光設備「MBM™-4000」榮獲第 32 屆「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎。該產品支援 A14 設計規則，並實現了業界頂尖的高精度性能，其技術實力備受肯定。
  • Source: PR TIMES
  • Date: Thu Jun 11 2026 00:28:27 GMT+0900 (Japan Standard Time)

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紐福萊科技 (NuFlare Technology) 的多電子束光罩曝光設備「MBM™-4000」榮獲第 32 屆「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎。該產品支援 A14 設計規則，並實現了業界頂尖的高精度性能，其技術實力備受肯定。

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榮獲「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎 (Thu Jun 11 2026 00:28:27 GMT+0900 (Japan Standard Time)), PR TIMES
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PR TIMES
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Thu Jun 11 2026 00:28:27 GMT+0900 (Japan Standard Time)

AI 摘要（NQ 加工版）

紐福萊科技 (NuFlare Technology) 的多電子束光罩曝光設備「MBM™-4000」榮獲第 32 屆「2026 半導體年度大獎」半導體製造設備部門優秀獎。該產品支援 A14 設計規則，並實現了業界頂尖的高精度性能，其技術實力備受肯定。

AI 分析

常見問題

Q: ニューフレアテクノロジーが今回受賞した賞は何ですか？
A: 電子デバイス産業新聞主催の第32回「半導体・オブ・ザ・イヤー2026」半導体製造装置部門における優秀賞です。
Q: 受賞対象となった製品は何ですか？
A: マルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」です。
Q: 「MBM™-4000」の特徴は何ですか？
A: A14デザインルールに対応し、50万本の電子ビームを高速・高精度に制御して、位置精度1.1nm（3σ）、寸法精度0.5nm（3σ）を実現しています。
Q: ニューフレアテクノロジーの過去の受賞歴はありますか？
A: はい、「半導体・オブ・ザ・イヤー2023」において、マルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-2000PLUS」が半導体製造装置部門のグランプリを受賞しています。
Q: 「MBM™-4000」はいつから販売されていますか？
A: 2025年から販売を開始しています。