台積電才喊貴 ASML估High NA EUV製晶片數月內見
NQ 評分
5/100
N1 內容完整性
3
AI 摘要（NQ 加工版）
半導體設備龍頭艾司摩爾（ASML）執行長福克於19日表示，預期幾個月內將可看到採用新一代高數值孔徑（High NA）極紫外光（EUV）機製造的首批產品問世。此番言論是在其最大客戶台積電於4月表示該設備（每台高達4億美元）過於昂貴之後。福克在比利時imec主辦的會議上強調，新設備將能降低最先進晶片的圖案化成本。