美調整對中晶片設備政策 續控高階製程以維持AI優勢
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AI 摘要（NQ 加工版）
米国議会は、中国への半導体製造装置の輸出規制を強化する「MATCH法案」を修正しました。ASMLのDUV露光装置への制限は維持しつつ、一部の全面規制は緩和されました。