應用材料發表埃米時代邏輯晶片專用之沉積設備
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AI 摘要（NQ 加工版）
應用材料公司發表了Precision™ Selective Nitride PECVD與Trillium™ ALD兩款新型半導體製造設備。專為2奈米及更先進製程設計，可為GAA電晶體實現原子級精度的沉積，大幅提升AI運算的功耗效率與效能。