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Entegris 与 JSR/Inpria 宣布签署 EUV 微影技术专利交叉授权协议

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常見問題

Q: インテグリスとJSRが合意した主な内容は何ですか?
A: 极端紫外线(EUV)リソグラフィ技术、特にメタルオキサイドレジスト(MOR)に関连する特许の非独占的クロスライセンス契约の缔结です。
Q: この契约によって解决される法的な争いはありますか?
A: 现在系争中であった当事者系レビュー(IPR2025-00267)が终了し、知的财产に関する悬念が解消されます。
Q: メタルオキサイドレジスト(MOR)とは何ですか?
A: 半导体の微细化(EUV工程)に不可欠な次世代レジスト材料です。JSR/Inpriaが材料面でリードし、インテグリスは供给や精制技术に强みを持ちます。
Q: 将来的な协业にはどのような分野が含まれますか?
A: レジスト设计、プリカーサーの合成、高纯度ろ过技术、およびそれらを安定して供给するシステムなどが検讨されています。
Q: この合意が顾客に与えるメリットは何ですか?
A: 先端材料の信頼性と供给体制が强化されることで、顾客は确信を持って次世代リソグラフィ技术を导入できるようになります。