中央消息 （中央社安特卫普19日综合外电报导）世界顶尖半导体生产设备制造商艾司摩尔（ASML）首席执行官福克今天说，预期几个月内可看到使用其新一代微影设备高数值孔径（High NA）极紫外光（EUV）机制造的首批产品问世。 路透社报导，ASML最大客户台积电4月才表示，High NA EUV曝光机太过昂贵。这种机器每台价格最高可达4亿美元（约新台币126亿6000万元）。 不过，福克（Christophe Fouquet）今天在比利时的微电子研究中心（imec）主办的一场会议上说，High NA EUV曝光机将降低最先进芯片的图案化（patterning）成本，无论是逻辑芯片或记忆芯片。 他并表示：「接下来几个月内，我们将见到首批在High NA系统上曝光（制造）的少数产品，无论是内存或逻辑应用。」（编译： 张正芊 ）1150519 选择与事实站在一起，您的每一份赞助，都是守护新闻自由的力量 下载中央社「一手新闻」APP，即时掌握最新消息 本网站之文本、图片及影音，非经授权，不得转载、公开播送或公开传输及利用。