中央消息 （中央社纽约16日综合外电报导）根据路透社所见美国国会草案最新版本，一项旨在限制更多芯片制造设备流向中国的法案已被缩减，但持续纳入对艾司摩尔（ASML）深紫外光（DUV）浸润式微影机台的全国性新限制。 总部位于荷兰的ASML是这项关键技术的全球主导供应商，对此拒绝评论。 这项名为「硬件技术多边协调管制法案」（MATCH Act）4月2日在联邦众议院提出，获得跨党派支持，目的是弥补对中国销售芯片制造设备的限制漏洞，并让美国与日本、荷兰等国家的政策保持一致。 这项法案在于维持美国在人工智能（AI）领域的领先地位，而AI可能改变各国之间的权力平衡。 草案由共和党众议员鲍加纳（Michael Baumgartner）提出，目前正以新版内容取代原始版本。 美国国会正试图立法，管制对中国出口芯片及芯片制造设备，因为川普政府在更新管制上动作迟缓，并放宽对先进芯片的限制。 4月初版本曾引发美国及海外业界不满。一位专家形容这项法案如同「失控列车」，不仅企图迫使盟友配合美国管制，还引入新的全面性国家限制与广泛的企业限制。制造业者表示，这些限制会导致出口减少、影响销售。 与4月初版本相比，许多限制已被移除，包括对低温蚀刻设备的全面性限制，这些设备由美国的科林研发（Lam Research）和日本的东京威力科创（Tokyo Electron）制造。 美国众议院外交事务委员会计划22日对此案进行表决，并同时审议十多项与AI、半导体及出口管制相关的法案。 然而，经过调整的法案仍禁止外国企业向中国芯片制造商长鑫存储、长江存储及中芯国际提供设备，华府针对的是使用美国技术的设备。 此外，这项法案还要求在受规范设施内维修设备时须取得许可，这对外国企业而言具争议性，不过申请将不再一律被拒。 自2022年底实施限制以来，美国一直试图与荷兰及日本协调芯片设备出口管制，并取得了部分成效，但美国设备制造商认为竞争环境仍不公平。 上述中国芯片制造商未回应置评请求。对于这项法案，中国驻美大使馆发言人刘鹏宇表示，中方将密切关注事态发展，并维护自身权益。（编译：徐睿承）1150417 选择与事实站在一起，您的每一份赞助，都是守护新闻自由的力量 下载中央社「一手新闻」APP，即时掌握最新消息 本网站之文本、图片及影音，非经授权，不得转载、公开播送或公开传输及利用。