10GPa超を安定発生する「超高圧SPS装置」を開発──スペースシードホールディングス、岡山理科大学と共同で材料の低温合成

よくある質問

Q: この新しい超高圧SPS装置の最大の特長は何ですか？

A: 10GPa以上の超高圧を安定発生でき、従来の課題だった圧力分布の不均一性を解消し、ミリスケールの試料を均一に焼結できる点です。

Q: この装置はどのような材料合成に活用が期待されますか？

A: 新規材料の低温合成、非平衡状態の制御、ダイヤモンドやc-BNなどの高圧合成材料の探索など、広範な材料プロセスへの応用が期待されます。

Q: 開発した装置の圧力較正には何を用いましたか？

A: ビスマス（Bi）の電気抵抗変化（相転移）を圧力定点として利用し、Bi II-III（2.70GPa）とBi I-II（2.55GPa）を確認しました。

Q: 従来の超高圧SPS装置と比べて、どのような点が改善されましたか？

A: 試料サイズがサブミリから直径約2mm・高さ約1mmのミリスケールに拡大し、圧力・温度分布の不均一性が大幅に改善されました。

Q: この研究成果はどこで発表されましたか？

A: 粉体粉末冶金協会2026年度春季大会（2026年5月末、大阪）で発表されました。