「パワー半導体用高品質SiCエピウェハーの高生産性製造技術」が「市村産業賞」貢献賞を受賞
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レゾナックと電力中央研究所が、パワー半導体用SiCエピウェハーの高生産性製造技術で第58回市村産業賞「貢献賞」を共同受賞しました。この技術はSiCエピウェハーの高品質化と高生産性を両立し、EVやデータセンターなどの省エネルギー化に貢献します。