「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition」はいつ、どこで開催されますか？

2026年4月9日(木)・10日(金)に、パシフィコ横浜のアネックスホールで開催されます。

ニューフレアテクノロジーのブース番号はどこですか？

ブース番号は「31」です。

A14ノードのマスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」や、高速検査を実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、および製品ロードマップが紹介されます。

10/7nmから成熟ノードまでの半導体製造用マスクを、透過反射同時検査により60分以下の高速で検査できる点が特徴です。

ブース番号は「31」です。

ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。

Citation: 「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition 第32回ホトマスク技術展示会」への出展について (Mon Mar 30 2026 20:53:43 GMT+0900 (Japan Standard Time)), PR TIMES
Source: PR TIMES
Date: Mon Mar 30 2026 20:53:43 GMT+0900 (Japan Standard Time)

ニューフレアテクノロジーが「Photomask Japan 2026」にて最新の描画・検査装置を出展。

最先端のA14ノード対応技術を提示することで、次世代半導体製造における同社の支配的地位を再確認させる狙いがある。

A14ノードへの対応は、AI半導体や高性能コンピューティング（HPC）向け需要の急増に対応する重要なマイルストーンとなる。

マスク描画装置市場における競合他社に対し、量産対応能力と検査速度の面で先行優位性を強調している。

半導体微細化のロードマップがA14ノードへと着実に進んでおり、製造装置側もそれに追随する準備が整っていることを示唆。

展示会後、主要な半導体メーカーからの引き合いが増加し、具体的な導入に向けた技術検証や商談が加速する。

Q: 「Photomask Japan 2026 Technical Exhibition」はいつ、どこで開催されますか？: A: 2026年4月9日(木)・10日(金)に、パシフィコ横浜のアネックスホールで開催されます。
Q: ニューフレアテクノロジーのブース番号はどこですか？: A: ブース番号は「31」です。
Q: 今回の展示会ではどのような製品が紹介されますか？: A: A14ノードのマスク量産に対応したマルチ電子ビームマスク描画装置「MBM™-4000」や、高速検査を実現するマスク検査装置「NPI-8000シリーズ」、および製品ロードマップが紹介されます。
Q: 「NPI-8000シリーズ」の主な特徴は何ですか？: A: 10/7nmから成熟ノードまでの半導体製造用マスクを、透過反射同時検査により60分以下の高速で検査できる点が特徴です。