株式会社FLOSFIAがJSTの支援で次世代パワー半導体を開発し、電力ロス削減と低コスト化を目指す

よくある質問

Q: FLOSFIAがJSTの支援を受けて開発した次世代パワー半導体に使用される材料は何ですか

A: FLOSFIAが開発した次世代パワー半導体にはα型酸化ガリウムが使用されています

Q: FLOSFIAの次世代パワー半導体技術の主な目的は何ですか

A: 電力ロスの削減と低コスト化を両立させることを目的としています

Q: FLOSFIAの開発した半導体技術が対象とする主な用途にはどのようなものがありますか

A: AIデータセンターや電気自動車（EV）における電力変換効率の向上が対象です

Q: FLOSFIAが開発を進めている半導体はどの種類の酸化ガリウムを利用していますか

A: α型酸化ガリウムを用いて次世代パワー半導体の開発を進めています

Q: JSTの支援を受けることでFLOSFIAが実現を目指す技術的目標は何ですか

A: 電力変換時のロス削減と製造コストの低減を同時に達成することです